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高分子材料における官能基の分布をナノスケールで観測できます
放射光軟X線XAFSイメージングの特徴
・軽元素 (C、O等) や遷移金属の化学状態や価数の二次元分布
・ラマン、IRより高い空間分解能
・TEMより低い照射ダメージ
(利用施設)
PEEM 九州シンクロトロンBL10
SPring-8 BL17SU
STXM PF BL19A
UVSOR RL4U
軟X線イメージングの代表的手法の原理
NEXAFS：Near edge X-ray absorption fine structure (吸収端近傍XAFS)
測定事例：劣化ゴムのPEEM観察
PEEM像より劣化ゴム内の炭素やシリコンの濃度、状態分布をナノスケールレベルで観測できました。所定位置のNEXAFSスペクトルから化学状態と成分の関係などを解析し、位置Bは位置Aより劣化由来のC=C、C=Oなどの官能基ピークが大きいことが確認できました。また、SiはSiO2で存在し、劣化によってSi 3s-O 2p混成軌道の変化が示唆されました。
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